0515-83835888
Дом / Продукция / Профессиональное производство оборудования для ионного покрытия PVD / Полупроводническая керамическая субстратная плата Высококлассник Оборудование для покрытия

Полупроводническая керамическая субстратная плата Высококлассник Оборудование для покрытия

Описание оборудования для покрытия для полупроводникового оборудования.

Принцип: Введите небольшое количество газа аргона в контейнер с высоким вакуумом, герметизированным высоким напряжением, чтобы ионизировать газ аргона и генерировать поток ионов аргона, который направлен на целевой материал (связанный с подготовкой композитного слоя медного металла в технологии обработки керамических подложков DPC Ceramic Substrate). Это шаг в технологии технологии обработки керамических субстратов DPC. Хотя он не напрямую описывается как конкретно для полупроводникового керамического оборудования для покрытия подложки, оно принадлежит принципу оборудования, который может быть вовлечен в процесс металлизации керамической субстраты и может использоваться в качестве ссылки. Цель состоит в том, чтобы разбрызгивать и соединить комплексный слой медного металла на керамическом субстрате, который является основой для последующих процессов, таких как изготовление цепи.
Функция в процессе: Посещение металлического композитного слоя на керамическом подложке является важным предварительным процессом для последующего производства цепи и других процессов керамического субстрата DPC. С помощью этого метода керамический субстрат может иметь лучшую проводимость и другие свойства, удовлетворяя потребности полупроводников и других областей.

Параметр продукта

Модель оборудования: HX1314-4MF

Размер оборудования: φ1300*H1400

KOTA Technology Limited Company

О нас

KOTA Technology Limited Company Был основан в 2012 году с зарегистрированным капиталом в 10 миллионов юаней, является национальным высокотехнологичным предприятием.
Штаб-квартира в Шанхае, Китай, в компании есть ряд дочерних компаний, находящихся в полной собственности в Нантонг, Янчунг и других местах в провинции Цзянсу, а также создал научно-исследовательские центры в Китае и Японии, чтобы расположить мировой рынок. В настоящее время компания превратилась в хорошо известного производителя новых энергетических интеллектуальных оборудования и является предприятием в области оборудования для медной фольги в стране. Основная техническая команда компании, возглавляемая г-ном Мацуда Мицуя в Нагоя, Япония, фокусируется на разработке и интеграции высококачественного производственного оборудования и системы автоматизации в области высокопрофильного электромеханического оборудования. Благодаря внедрению японских концепций передовых технологий и дизайна и импорта оригинальных точных деталей из Японии, различные продукты оборудования, производимые компанией, стали отраслевыми показателями.

Честь

  • честь
    Патентный сертификат
  • честь
    Патентный сертификат
  • честь
    Патентный сертификат
  • честь
    Патентный сертификат
  • честь
    Патентный сертификат
  • честь
    Патентный сертификат

Новости

Свяжитесь с нами сейчас

Отраслевые знания

1. Почему является полупроводниковым керамическим субстратным оборудованием для покрытия, необходимо для передового производства?
Оборудование для полупроводникового керамического подложки для покрытия лежит в основе современного производства полупроводников, играя ключевую роль в повышении производительности и надежности керамических субстратов, используемых в электронных устройствах. Процесс применения металлического составного слоя, обычно медного, к керамическому субстрату, имеет решающее значение для подготовки подложков, которые могут поддерживать сложные схемы и соответствовать требованиям строгой проводимости полупроводниковых устройств. Это покрытие служит основой для последующих этапов, таких как изготовление цепи, гарантируя, что керамический субстрат обеспечивает электрическую проводимость и тепловую стабильность, необходимую для производительности устройства.
Hongtian Technology Co., Ltd., лидер в области высококачественных полупроводниковых керамических субстратных оборудования для покрытия, стремится предоставить расширенные индивидуальные решения для производителей в полупроводниковой промышленности. С акцентом на интеллектуальное производство и обеспечение процессов, мы стремимся удовлетворить конкретные потребности наших клиентов, предоставляя продукты, которые поддерживают создание высокопроизводительных полупроводниковых компонентов.
Наше полупроводниковое керамическое оборудование для покрытия подложки обеспечивает высокую точность, последовательность и эффективность в процессе распыления. Внедряя газ аргона в герметичный контейнер с высоким вакуумом и ионизируя его для создания потока ионов аргона, мы включаем гладкий и равномерный металлический композитный слой для связи с керамическим субстратом. Эта связь необходима для обеспечения того, чтобы керамические субстраты могли обрабатывать сложные цепи, которые образуют основу полупроводниковой технологии. Полученные покрытия улучшают проводимость и долговечность субстратов, что делает их подходящими для использования в очень требовательных приложениях, таких как микрочипы, светодиодные технологии и электростанции.
В Hongtian Technology Co., Ltd. мы понимаем важную роль, которую полупроводниковые керамические субстраты играют в производительности электронных устройств. Наше передовое оборудование предназначено для удовлетворения точных требований этой отрасли, предоставляя производителям инструменты, необходимые для создания высококачественных продуктов, которые выполняются надежно в самых сложных условиях. Инвестируя в высококлассное оборудование для полупроводникового керамического субстратного покрытия, наши клиенты лучше оснащены для того, чтобы оставаться впереди на конкурентном рынке, обеспечивая при этом производство высокопроизводительных, долговечных компонентов.

2. Как работает процесс покрытия для достижения точности и качества?
Процесс покрытия, используемый в производстве полупроводниковых керамических субстратов, является высокоспециализированным и требует передовых технологий для обеспечения оптимальной производительности. В Hongtian Technology Co., Ltd. наше оборудование для покрытия использует герметичный контейнер с высоким вакуумом, в рамках которого вводится газ аргона и ионизируется для создания ионов аргона. Затем эти ионы направляются на целевой материал, обычно медный, который образует тонкий металлический композитный слой на поверхности керамического субстрата. Этот слой является первым шагом в подготовке субстрата для последующего изготовления электронных цепей.
Наше оборудование предназначено для обеспечения наивысшего уровня точности в этом процессе, гарантируя, что металлический композитный слой будет равномерно нанесен и что связь между металлом и керамикой является сильной и долговечной. Техника распыления аргона, используемая в нашем оборудовании, обеспечивает мелкий контроль над толщиной и качеством металлического покрытия, что имеет решающее значение для достижения необходимой проводимости и свойств теплового управления, требуемых полупроводниковыми устройствами.
Точность этого процесса покрытия необходима для обеспечения того, чтобы керамические субстраты могли противостоять электрическим требованиям и тепловым напряжениям, с которыми они столкнутся в своих окончательных применениях. Плохое или неравномерное покрытие может привести к дефектам, плохой производительности или даже отказа окончательного полупроводникового компонента. Вот почему Hongtian Technology Co., Ltd. делает такой сильный акцент на высококачественную настройку и интеллектуальное производство для удовлетворения конкретных потребностей каждого клиента, гарантируя, что керамические субстраты имеют в виду самые высокие стандарты качества.
Наше оборудование интегрирует технологии обеспечения процессов, которые позволяют производителям контролировать и контролировать каждый аспект процесса покрытия. От введения газа аргона до применения металлического составного слоя, каждый шаг тщательно регулируется для поддержания согласованности и точности. Этот уровень контроля необходим для производства высококачественных субстратов, которые будут поддерживать создание надежных и долговечных полупроводниковых устройств. Используя наши знания и передовые технологии, наши клиенты могут быть уверены, что они используют лучшее оборудование, доступное для процесса полупроводникового субстратного покрытия.

3. Каковы ключевые преимущества использования высококачественного оборудования для покрытия в полупроводнике?
Высокий уровень Оборудование для полупроводникового керамического подложки для покрытия предлагает ряд преимуществ, которые имеют решающее значение для производителей, стремящихся оставаться конкурентоспособными в быстро развивающейся полупроводниковой промышленности. В Hongtian Technology Co., Ltd. мы стремимся предоставить интеллектуальные, высокопроизводительные решения, которые помогают нашим клиентам повысить эффективность, точность и надежность в своих производственных процессах.
Одним из основных преимуществ использования высококачественного оборудования для покрытия является возможность достичь равномерного, высококачественного металлического композитного слоя на керамическом субстрате. Эта однородность необходима для обеспечения того, чтобы субстрат имел необходимую электрическую проводимость и тепловые свойства, необходимые для создания полупроводниковых цепей.
Другим ключевым преимуществом является повышение эффективности и скорости процесса покрытия. Оборудование Hongtian Technology Co., Ltd. предназначено для оптимизации процесса распыления, сокращения времени простоя и увеличения пропускной способности без жертвы качества. Наши интеллектуальные производственные системы включают в себя расширенные технологии управления процессами, которые позволяют контролировать и корректировки в реальном времени, гарантируя, что процесс покрытия работает с пиковой эффективностью.
Надежность и долговечность покрытий, произведенных высококачественным оборудованием, также являются значительными преимуществами. Сильная и последовательная связь между металлическим композитом и керамическим субстратом помогает повысить долгосрочную производительность полупроводниковых устройств, которые полагаются на эти субстраты. С нашим оборудованием производители могут производить керамические субстраты, которые хорошо работают при высоких электрических нагрузках, высоких температурах и других требовательных условиях.